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中国突破光刻胶关键技术中芯国际为主要客户解决了燃眉之急!
浏览: 发布日期:2020-06-29

  众所周知,对中国芯片供给的干预是美国企图迫使华为屈服的重要渠道,以此为突破口,美国先是中断了其与华为直接的芯片供应合作,之后迫使台积电退出华为的可选供应商行列。

  在华为选择了中芯国际这一合作伙伴之后,美国又以光刻机相威胁,如今我国上海微电子已然具备了国产光刻机的生产技术,解决了当前的燃眉之急。

  此外我国又突破了光刻胶的关键技术,中芯国际成为了这一产品的主要客户,以芯片为中心,我国高端技术领域也实现了全面的发展。

  在光刻胶领域取得突出进展的是一家叫做上海新阳的实验室,该实验室是上海当地十分看重的一个实验室,多年以来专注于集成电路的材料研制工作,其中就包括光刻胶的生产。

  与光刻机一样,光刻胶同样是芯片生产过程中的一项重要材料,在具体生产过程中需要将其涂抹到晶圆之上,之后在进行光刻环节时,被光刻胶涂抹过的部分才会被识别为光刻对象,以完成整个光刻过程。

  因此光刻胶的性能是决定芯片光刻的精确性的重要因素,尤其是随着芯片工艺的精细化,对光刻胶的要求也在日益提高。

  此次中国这一研发实验室成功生产出国产先进的光刻胶,与上海微电子的光刻机相结合,定能为中芯国际的芯片生产工作助力。

  如今这一光刻胶已经进入了中期试验阶段,而中芯国际已经在与该实验室的有关管理人员进行接洽,计划与其达成长久的合作,成为其重要客户之一。

  而纵观国际市场,光刻胶生产技术比较成熟的主要为日本,以及一些欧美国家,而根据早些年所签订的《瓦森纳西协议》,这一产品出口至我国是受到一定限制的,这也是我国芯片技术独立的一个隐患,如今上海这一实验室成功帮助我们解决了这一问题,更助于中国芯片的自给自足,真正独立。